四月二十六日。
硅谷。
gca总部。
“公司拿出200万美元奖励gca3500b项目部。”
周五下午，孙健接到余建国从美国打过来的报喜电话，第二天就乘飞机来到硅谷。
啪啪……
艾德里安、布罗迪和汤普森等公司高层露出了久违的笑容，扬眉吐气。
gca光刻机半导体研究院将研制成功的适合8英寸晶圆和350nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统，安装在一台gca3500a光刻机上，制程工艺突破350nm，通过多次测试，最高达到320nm，命名为gca3500b，制程工艺超过nikon3500b光刻机，还提升47%的生产效率，创了新的世界纪录！
去年底研制成功gca3500a是一个巨大的突破，与nikon3500b光刻机的制程工艺看起来相同，但由于安装有适合8英寸晶圆和500nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统，gca3500a的制程工艺和生产效率明显超过nikon3500光刻机，经过sematech专家组技术认证后，ii、amd和hp半导体设备公司预定了五台gca3500a光刻机。
紧接着，gca股东大会通过并实施向10名特定投资者以每股1.5美元的价格，定向增发10亿新股的方案，其中peng购买了3亿股，atic购买了2亿股，gca融资145500万美元，现金流大增，召回和招聘了400多名研发人员和技术工人，启动了3条光刻机半导体设备生产线，如今能同时生产五台gca3500a光刻机。
随着5台gca3500a光刻机的交付使用，用户反应良好，ii、amd和hp等公司又预定了14台gca3500a光刻机，还从台积电拿到一条价值60亿美元的8英寸晶圆和以gca3500a为主的半导体生产线订单。
为了提高芯片生产工艺和一小时单位产能（wph），一家晶圆厂（fab）在一条先进的半导体生产线上一般配备20台左右的光刻机，高低搭配，除了最下面的晶体管层需要最先进的光刻机之外，上面做铜互联技术的无需最先进的光刻机。
一条半导体生产线中，除了占到半导体生产线成本三分之一的光刻机外，还需要清洗设备、高温/氧化炉管退火设备、匀胶机、烘干设备、显影设备、刻蚀机、去胶机、离子注入设备、cvd/pvd/ald/pecvd/cmp等大批
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