第457章 陈常在也缺钱啊
所谓的光刻机，後世很多人认为那只是一台机器，其实光刻机从来都不是一台机器，而是一个系统。
光刻系统的底层原理，是在区分光学、精密机械、真空、材料、测控、光刻胶化学，等几大物理基础理论中发展起来的。
这些东西体现到设备上，就是光源、光束整形单元、掩膜台、投影物镜、工件台、光刻胶涂布/显影机、真空系统、干涉测量系统、电控系统。
这些东西加到了一起，才组成了一套真正的光刻机。
1873年，恩斯特.阿贝，提出了衍射极限，这也就是光刻机的基础理论，阿贝成像理论。
这个在几十年前提出的理论，也是後来所有光刻机理论最基础的基石。
但是在後世真正把这个理论应用到集成电路上的，还是1952年时美国陆军引信实验室提出的：光致抗蚀剂加掩膜曝光加化学刻蚀，等整套微加工完整思路提升出来的。
这套思路理论是具有革命性意义的。
整套工艺的基本原理是：在晶片基底上涂感光胶，然後掩膜遮挡曝光，曝光区的化学性质改变，之後显影去除部分胶层，以胶为掩膜腐蚀矽表面。
这就是後世初代接触式光刻机的全部理论。
而现在华教授说他们已经完全的把这套理论给证实整理了出来。
那就说明他们已经基本上掌握了制造矽基晶片最根本的东西。
陈常在看着华教授说道：「华教授，我看你的报告中说，你们这套理论基础已经完善了，但是想要把它变成能够实用的设备，还需要不少的经费？」
华教授也有些无奈地笑了笑，说道：「陈院长你也是知道的，现在我们的项目非常多，哪一个都是眼前急着需要用的。
院里下面哪一个研究所的所长到我这来的时候，都在和我说他们的项目已经到了紧要关头，耽误不得。
可是僧多粥少，年初的预算就只有那些，咱们建国之後，到处都需要用钱。
我们也知道您这边的难处，所以我们也不好意思总是向您伸手。
不过这个项目我感觉真的不能耽搁太久。
我记得十年前，咱们刚刚见面的时候，您就对我说过，未来的计算机第三次革命一定会是在矽基材料上产生。
那个时候咱们用的还是机械计算机，就连电子管计算机还没有头绪呢。
後来咱们开技术碰头会，
…。。